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真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設備說明書
和設備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。
①檢查真空鍍膜機各操作控製開關是否在"關"位置。
②打開總電源開關,設備送電。
③低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲後,啟動升鍾罩閥,鍾罩升起。
④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鍾罩內各部位,保證無任何雜質汙物。
⑤落下鍾罩。
⑥啟動抽真空機械泵。
⑦開複合真空計電源(複合真空計型號:Fzh-1A)。
a.左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。
b.低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至110mA時,左旋鈕"1"旋轉至指向2區段測量位置。
⑧當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時,低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
⑨真空鍍膜機開通冷卻水,啟動擴散泵,加熱40min。
⑩低壓閥拉出。重複一次⑦動作程序:左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至6.7Pa時,開高壓閥(閥杆順時針旋轉)。
⑪等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時,開規管燈絲開關。
真空鍍膜機a.發射、零點測量鈕“9”旋轉至指向發射位置。
b.左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
⑫旋轉發射調節鈕“4”,使高壓真空表“5”內指針指向5。
⑬發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向零點位置。
⑭旋轉零點調節鈕“10”,讓高壓真空表“5”內指針指向0位置。
⑮發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向測量位置。
⑯旋轉標準調節鈕“3”,讓高壓真空表“5”內指針指向10。
⑰旋轉“倍加器”開關鈕“8”至指向10-12,當高壓真空表“5”內指針逆時針左移超過1時,再把“倍加器”開關旋鈕“8”旋轉至指向10-3。
⑱當高壓真空表“5”內指針逆時針移動超過6.7Pa時,開工件旋轉鈕開關,鍾罩內被鍍件PVDF膜轉動。
⑲開蒸發鈕開關。把電流分插塞插入蒸發電極分配孔內(設有1、2、3、4孔,可插入任意一孔)。
⑳右手旋轉右側調壓器手輪,慢慢旋轉升壓。
a.從視鏡窗口觀察鎢螺旋加熱子的加熱溫度顏色變化情況。
b.當鎢螺旋加熱子顏色變成黃橙色,鋁絲開始熔化時,左手操作擋板鈕,移開鎢螺旋上方擋板。
c.鋁絲全部熔化蒸發,擋板回原位。
d.右手旋轉調壓器手輪回零位。第一次蒸鍍工作完成。
21.如果再想蒸鍍一次(為了增加電極金屬層厚度):把電流分插塞撥出插入另一個電極分配孔。重複⑳操作動作。
22.關閉規管燈絲開關。關閉高壓閥(逆時針轉手柄)。關閉工件旋轉。關閉蒸發。旋轉機械泵鈕至指向擴散泵位置。
23.低壓閥拉出。鍾罩充氣。充氣一段時間,當沒有氣.聲時,升鍾罩。
24.真空鍍膜機的鎢螺旋加熱子內加鋁絲。PVDF薄膜調換另一麵向下(原下麵已鍍一層鋁膜麵向上)。緊固在轉動圓盤上。
25.落鍾罩。開機械泵。
a.左下旋鈕“1”旋轉至指向2區段測量位置。
b.當低壓真空表“2”內指針順時針移動到6.7Pa時,低壓閥推入。
c.左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
d.當低壓真空表“2”內指針順時針移動到6.7Pa時,開高壓閥。旋鈕“1”旋轉至指向2區段測量位置。
e.當低壓真空表“2”內指針順時針移動到指向0.1Pa時,開規管燈絲。
f.由⑰開始重複操作至⑳。
26.PVDF薄膜蒸鍍完鋁層後,按順序關閉規管燈絲、高壓閥、機械泵、擴散泵。把低壓閥拉出。鍾罩充氣,充氣完畢後升鍾罩。取出工件,做好鍾罩內清理工作。
a.落下鍾罩。
b.開機械泵,抽3~5min,停機械泵。
c.切斷供電總開關。
d.1h後再關閉冷卻水。操作全部完成。
27.真空鍍膜機正常生產中,如遇到突然停電時,要立即切斷高真空測量,關閉規管燈絲,高壓閥、低壓閥拉出。來電後,先讓機械泵啟動工作3~5min後,再轉入正常生產。
以上就是真空鍍膜機的操作程序。