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真空鍍膜機金屬件裝飾膜PVD鍍製工藝

發布日期:2016-05-16 00:00 來源:http://www.teefurs.com 點擊:

      真空鍍膜機金屬件裝飾膜PVD鍍製工藝是一種高新技術,主要為在裝飾產品設計。例如大型板材管材、家具裝飾品上鍍保護膜,鍍膜後的產品能夠展現出雍容華貴、光彩奪目等各種各樣的美麗效果,並且膜層耐磨損不褪色。

  

真空鍍膜機金屬件裝飾膜PVD鍍製工藝


  1.裝飾件材料(底材)

  

  (1)金屬。不鏽鋼、鋼基合金、鋅基合金等。

  

  (2)玻璃、陶瓷。

  

  (3)塑料。ABS、PVC、PC、SHEET、尼龍、水晶等。

  

  (4)柔性材料。滌綸膜、PC、紙張、布、泡沫塑料、鋼帶等。

  

  2.裝飾膜種類

  

  (1)金屬基材裝飾膜層:TiN、ZrN、TiC、CrNx、TiCN、CrCN、Ti02、Al等。

  

  (2)玻璃、陶瓷裝飾膜層:TiO2、Cr2O3、MgF2、ZnS等。

  

  (3)塑料基材裝飾膜層:AI、Cu、Ni、Si02、Ti02、ITO、MgF2。

  

  (4)柔性材料裝飾膜層:Al、lTO、Ti02、ZnS等。

  

  比較成熟的鍍膜技術有電弧離子鍍、磁控濺射離子鍍和複合離子鍍。下麵分別從各類鍍膜技術中選取一種具有代表性的典型鍍製工藝進行介紹。

  

  一.用電弧離子鍍的方法為黃銅電鍍亮鉻或鎳手表殼鍍製TiCN膜。

  

  采用小弧源鍍膜機和脈衝偏壓電源;

  

  (1)工件清洗、上架、入爐

  

  工件在入爐之前要經過超聲波清洗、酸洗和漂洗三道工序。

  

  首先是在超聲波清洗槽中放入按使用要求配製的金屬清洗劑,利用超聲波進行脫脂、清洗。清洗之後,進行酸洗,它可以中和超聲波清洗時殘餘的堿液,還能起到活化處理的作用。然後進行漂洗以徹底除去酸液,漂洗時必須采用去離子純淨水或蒸餾水。經過三洗後,即時進行烘幹,溫度一般控製在100℃左右,時間為1h左右。也可以風吹幹後馬上人爐。

  

  (2)鍍膜前的準備工作

  

  ①清潔真空鍍膜室。用吸塵器將真空鍍膜室清潔一遍。當經過多次鍍膜時,真空鍍膜室的內襯板還需作定期清洗,一般是半個月清洗一次。

  

  ②檢查電弧蒸發源。工作前,要確保電弧蒸發源發源安裝正確,絕緣良好,引弧針控製靈活,程合適,恰好能觸及陰極表麵。

  

  ③檢查工件架的絕緣情況。工件架與地之間的絕緣必須須良好,負偏壓電源與工件架的接觸點點必須接觸良好。

  

  以上幾項工作確保沒有問題後,才可以關閉真空鍍膜室的門,進行抽氣和鍍膜。

  

  (3)抽真空

  

  真空抽至6.6x10-3Pa。開始是粗抽,從大氣抽至5Pa左右,用油擴散泵進行細抽。在粗抽時,可以烘烤加熱至150℃。伴隨鍍膜室溫度的升高,器壁放氣會使真空度降低,然後又回升,等到溫度回升到6.6x10-3Pa時方可進行鍍膜工作。

  

  (4)轟擊清洗

  

  ①氬離子轟擊清洗

  

  真空度:通人高純度氬氣(99.999%)真空度保持在2~3Pa。轟擊電壓:800~1000V。轟擊時間:10min.

  

  此刻在真空鍍膜室內發生輝光放電,放電產生的氬離子以較高的能量撞擊工件表麵,將工件表麵吸附的氣體、雜質和工件表麵層原子濺射下來,露出材料的新鮮表麵。

  

  ②鈦轟擊

  

  真空度:通人高純度氬氣使真空度保持在2x10-2Pa。脈衝偏壓:400~500V,占空比20%。電弧電流:60~80A,輪換引燃電弧蒸發源,每個電弧蒸發源引燃1~2min。

  

  (5)鍍膜

  

  ①鍍鈦

  

  真空度:通人高純度氬氣,真空度保持在2x10-2Pa。脈衝偏壓:200~300V,占空比50%。電弧電流:60~80A,引燃全部弧源,時間2~3min.

  

  ②鍍TiCN

  

  真空度:通人高純度氮氣使真空度保持在(3~8)x10-1Pa,然後再逐漸加大C2H2氣體,隨著C2H2氣體量增大,色澤由金黃一赤金黃一玫瑰金一黑色變化。控製N2與C2H2兩種氣體的比例可以達到預定的色度。

  

  電弧電流:50~70A。脈衝偏壓:100~150V,占空比60%~80%。沉積溫度:200℃左右。間:10~20min,膜層厚度0.2~0.5μm。

  

  (6)冷卻

  

  鍍膜工序結束後,首先關閉電弧電源和偏壓電源,然後關閉氣源、停轉架。工件在真空鍍膜室內冷卻至80~100℃時,向鍍膜室內充大氣,取出工件。


相關標簽:鍍膜機

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