手機視屏減反射膜的鍍膜機鍍製工藝

       手機視屏減反射膜的鍍製工藝

　　手機的彩色液晶顯示屏上采用減反射保護膜，可降低人眼受到外界炫光刺激的影響，提升觀看舒適度，並保護眼睛。常用手機的基材是PC或亞克力基材。這兩種基材作為彩色液晶顯示屏的保護屏，都存在反射率高的缺點。因為未經鍍膜的保護屏界麵至少有4.2%的反射率，在強光（如太陽光）的照射下，其反射光的強度會嚴重降低顯示屏圖像的對比度。所以，如對保護屏表麵鍍反射率小於0.5%的減反射膜，將會提高顯示屏的清晰度。

　　在保護屏表麵用鍍膜設備磁控鍍膜方法分別鍍上高折射率的Ti02膜和低折射率的Si02膜，使保護屏具有低反射增透的效果。由於PC或亞克力基材是有機材料，所以沉積溫度應在30-35℃範圍之內。

　　鍍膜工藝

　　(1)基片-PMMA，PC。

　　(2)膜係一二層減反射膜十防水膜。

　　(3)鍍膜。采用連續式磁控濺射鍍膜機進行反應沉積。

　　①電源：Si靶用中頻電源，Ti靶用直流十脈衝電源。

　　②真空度：通入Ar、02，真空度為5X10-1Pa。

　　③溫度：25～35℃。

　　④最後沉積防水膜IAF3。