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真空鍍膜機設備的旋片式真空泵的常見保養方法

發布日期:2016-06-24 00:00 來源:http://www.teefurs.com 點擊:

       旋片式真空泵是抽除密封容器中的氣體從而獲得真空的主要鍍膜機。在實際運用過程中需要正確的保養才能提高它的性能和壽命,(不適宜抽含氧過高的、有性的、對金屬起腐蝕的和含有顆粒塵埃的氣體)。據調查了解,有相當一部分用戶,是因為使用不當,而出現了一些問題。本文針對真空鍍膜設備的旋片式真空泵的常見保養提幾點需要注意的事項。

真空鍍膜機設備的旋片式真空泵的常見保養方法

  1、經常檢查油質情況,發現真空泵油乳化及變質應及時更換真空油,確保真空泵工作正常。

  2、真空泵換真空油的期限,按實際使用條件和能否滿足性能要求等情況考慮,由用戶酌情決定。一般新真空泵,抽除清潔幹燥的氣體時,建議在工作100小時左右換油一次。待油中看不到黑色金屬粉末後,以後可適當延長更換真空油期限。

  3、嚴禁換用其他種類的油。一定要用專業的真空油。經常檢查油位位置,不符合規定時須調整使之符合要求。以旋片真空泵運轉時,油位到油標中心為準。

  4、一般情況下,真空泵工作2000小時後應進行檢修,檢查橡膠密封件老化程度,檢查排氣閥片是否開裂,清理沉澱在閥片及排氣閥座上的汙物。清洗整個真空泵腔內的零件,如轉子、旋片、彈簧等。一般用汽油清洗,並烘幹。對橡膠件類配件清洗後用幹布擦幹即可。清洗裝配時應輕拿輕放,小心碰傷。

  5、檢查真空泵管路及結合處有無鬆動,漏氣現象。用手轉動真空泵,試試是否轉動靈活。

  6、有條件的對管道中同樣進行清理,確保管路暢通。

  7、嚴禁長時間抽大氣!嚴禁無油少油工作。在被抽係統與真空泵鏈接處應該安裝真空閥,停機前應先關閉通道已防止真空由回流到被抽係統中!確保被抽係統無腐蝕性氣體。

  8、旋片式真空泵重新裝配後,應進行試運行,一般須無負載,空轉2小時並換油二次。由於在清洗的過程中,在旋片真空泵箱體中會殘留一定量易揮發物,待揮發完以後,再投入正常工作。

       用高能粒子轟擊固體表麵時能使固體表麵的粒子獲得能量並逸出表麵,沉積在基片上。濺射現象於1870年開始用於鍍膜技術,1930年以後由於提高了沉積速率而逐漸用於工業生產。常用的二極濺射設備如圖3[ 二極濺射示意圖]。通常將欲沉積的材料製成板材──靶,固定在陰極上。基片置於正對靶麵的陽極上,距靶幾厘米。係統抽至高真空後充入 10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產生輝光放電。放電產生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表麵原子碰撞,受碰撞從靶麵逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏範圍。濺射原子在基片表麵沉積成膜。與蒸發鍍膜不同,濺射鍍膜不受膜材熔點的限製,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質。濺射化合物膜可用反應濺射法,即將反應氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應氣體及其離子與靶原子或濺射原子發生反應生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在基片上。沉積絕緣膜可采用高頻濺射法。基片裝在接地的電極上,絕緣靶裝在對麵的電極上。高頻電源一端接地,一端通過匹配網絡和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源後,高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負半周分別打到絕緣靶上。由於電子遷移率高於正離子,絕緣靶表麵帶負電,在達到動態平衡時,靶處於負的偏置電位,從而使正離子對靶的濺射持續進行。采用磁控濺射可使沉積速率比非磁控濺射提高近一個數量級。


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