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真空鍍膜機蒸鍍塑料件的工藝

發布日期:2016-08-08 00:00 來源:http://www.teefurs.com 點擊:

,來料檢查

  2,幹燥,待真空鍍膜機鍍件來料時含較多水分,需幹燥處理3-5h,溫度為50-60oC; 3

真空鍍膜機蒸鍍塑料件的工藝

  3,上架,一般注塑時基本按真空鍍膜生產,因此待真空鍍膜鍍件表麵一般油汙較少經過一般的擦拭就可上架,但是來料油汙多時需進行去汙處理。方法是用清潔劑逐件刷洗,漂洗,烘幹。油汙嚴重時還需用清洗劑在50-600C,浸泡15-20min進行脫脂處理;

  4、除塵,這道工序是保證真空鍍膜鍍膜質量的關鍵之一,方法有兩種:一種是用吸塵器對準待真空鍍膜鍍件仔細地除塵,另一種是用高壓其“吹塵”的方法;

  5、塗底漆,塗底漆是保證真空鍍膜鍍膜質量的關鍵之二;

  6、烘幹,塗漆流平後需進行幹固處理,方法有紅外線加熱法,電熱加熱法及紫外線(UV)固化法等,固化溫度為60-700C,固化時間為1.5-2.5h;

  7、真空鍍膜,真空鍍膜是保證真空鍍膜鍍膜質量的關鍵。 真空鍍膜的鍍膜操作:待真空鍍膜鍍件上架並裝上鎢絲,然後入爐,檢查接觸是否良好,轉動正常,關真空鍍膜真空室,抽真空。 真空鍍膜蒸發鍍鋁,作為裝飾膜真空鍍膜蒸鋁時的真空鍍膜真空度控製在(1-2)X10-2Pa,真空鍍膜蒸發采用快速蒸發可減少氧化概率,又不會使真空鍍膜膜層的組織結構變粗。 冷卻充氣,真空鍍膜蒸鋁以後,即可充氣出爐;

  8、塗麵漆,保護真空鍍膜的金屬膜層,為著色工作做準備; 9著色,麵漆徹底固化後可進行染色處理。

  真空鍍膜設備有關問題答複

  1. 建議參照生產量掌握真空鍍膜設備靶材厚度的消耗情況:

  前提: 真空鍍膜設備靶材厚度相同。

  比如目前貴廠主要是規格為1.7mm厚的海綿真空鍍膜設備鍍膜,相信目前已經明確大約生產多少平米時該換靶材,其他規格以此類推。

  2. 真空鍍膜設備靶材厚度是根據磁場、電場、強度以及板材標準厚度等來確定。

  可選厚度最佳範圍:磁場、電場、強度三者綜合指標來確定厚度最佳範圍。

  選用不同厚度的真空鍍膜靶材時要注意調節極靴的位置。

  3. 延時開真空鍍膜室門的原因

  海綿厚度小於1.5mm時:由於濺射功率較低,,真空鍍膜完畢可立即開門。

  海綿厚度大於1.5mm時:由於真空鍍膜設備濺射功率較高,真空鍍膜室內溫度比室溫高得多,不允許真空鍍膜完畢立即開門,目的如下:

  a. 真空鍍膜室溫度比室溫高得多時,膜澱積後在真空鍍膜室內進行適當的保溫,使膜內部結構穩定,表麵形成一層極薄的鈍化膜,使新澱積的膜盡量不暴露或少暴露於大氣中。

  b. 真空鍍膜室溫度比室溫高得多時,膜澱積後立即開門,人無法操作。

  4.在海綿能夠鍍透,其性能能滿足要求的前提下,盡量采用較低的功率,以使海綿基體的溫度不致過高並且省電,海綿基體的溫度與功率成正比,功率過大會造成海綿碳化,談不上產品質量

  ZZ-560型射頻磁控濺射真空鍍膜設備

  一、用途及特點

  1. 為單室立式結構的高真空多功能真空鍍膜設備,射頻磁控濺射真空鍍膜、直流磁控濺射真空鍍膜的組合,既能滿足各類膜層的實驗研究,又能減少射頻輻射的機會,當濺射金屬材料時,可采用直流磁控濺射真空鍍膜;當濺射非金屬材料時,可采用射頻磁控濺射真空鍍膜.

  2. 可真空鍍膜膜層:金屬單質膜(如Al、Ni)、合金膜、氮化物膜、碳化物膜、氧化物膜、其它非金屬化合物膜.

  二、主要技術指標和外部設施要求

  (一) 技術指標:

  1. 真空鍍膜室型式: 立式圓筒形、間歇工作

  2. 真空鍍膜室尺寸: φ600×400

  3. 極限真空度: 5×10-3Pa

  4. 壓升率: ≤2Pa/h

  5. 靶數量: 2個

  6. 靶功率: 單靶2KW

  7. 加熱溫度: 室溫~150℃

  8. 工件最大尺寸: 垂直方向最大尺寸≤100mm

  9. 總功率: 25KW

  (二)外部設施要求: (用戶自備)

  1. 電源: 380V

  2. 氣源:

  壓縮空氣: 淨化幹燥,使用壓力0.4~0.6Mpa

  高純氬氣: 99.999%

  高純氮氣: 99.999%

  其它氣體

  3.冷卻用水

  壓力: 1.5~2.5Kg/cm2、水溫<20℃

  4.占地麵積: 20m2

  三、主要組成部分:真空鍍膜室、真空係統、充氣係統、氣動係統、水路係統、電控係統

  1.真空鍍膜室

  真空鍍膜真空室體、靶裝置、傳動係統、加熱器、觀察窗、靶擋板機構、隔熱屏、放氣閥.

  1).真空鍍膜室體:為立式園筒形側開門不鏽鋼結構.

  2).靶裝置:靶體及其零部件、磁體、屏蔽罩

  靶型式:園形平麵靶

  靶麵有效尺寸:φ120

  靶位排布:側麵對放

  靶特點:采取2個同心環磁體,每個同心環均由若幹個磁柱

  組成環狀,可拓寬靶刻蝕區和改善靶原子的沉積分布,從而提高膜厚的均勻度.

  靶-基距:靶與基片的距離為50~80連續可調

  3).傳動係統:電機、主軸、密封箱、軸承、水冷箱等等.

  4).加熱器: 管狀加熱器

  2.真空係統:

  擴散泵: K-200T

  羅茨泵: ZJ-30

  旋片泵: 2X-8

  冷阱: DN200

  氣動高真空擋板閥: 3個

  電磁真空帶充氣閥

  波紋管: 3套

  不鏽鋼連接管道: (1Cr18Ni9Ti )若幹套

  泵架:

  3.充氣係統:采用雙路質量流量控製器自動充氣.

  流量顯示儀: D08-2C/ZM

  質量流量控製器: D07-7A/ZM 2個

  電磁截止閥: DJ2B-301 2個

  充氣管: 00Cr17Ni14Mo2不鏽鋼管

  三通及四通若幹:

  真空膠管及托架:

  4.氣動係統:氣動三聯件、電磁換向閥、閥板、氣管、氣嘴、支架等

  5.水冷係統:進水總管、回水總管、支架、球閥、水管及附件、電接點壓力表.

  6.電控係統:

  靶電源、加熱控製電源、傳動係統控製、真空測量控製係統及各類儀表、按鈕、電控櫃櫃體等。

  真空鍍膜Low-E膜特點

  當今幾乎所有的真空鍍膜Low-E膜都是以薄的真空鍍膜銀膜為基礎。為了保持玻璃在可見光的高透過率並保護真空鍍膜銀膜免遭侵蝕,必須在真空鍍膜銀膜的二麵加上高折射率材料的減反射和保護真空鍍膜膜層。為了進一步保護真空鍍膜銀膜,還要增加一個所謂“阻擋層”。目前在市場上真空鍍膜Low-E玻璃有各種不同的設計真空鍍膜膜係。

  真空鍍膜Low-E玻璃的最顯著特點是它的低傳熱係數K,而且K值是隨著麵電阻和真空鍍膜鍍層發射率降低而減少。當今以真空鍍膜銀為基礎的真空鍍膜Low-E鍍層能夠將發射率降低到ε=0.04,再加上真空鍍膜沉積無環境汙染,使它在當今玻璃真空鍍膜鍍膜領域中占有主導地位。目前這種真空鍍膜Low-E玻璃的最大的真空鍍膜係統可以在45秒內生產一塊3.2米×6米的玻璃,相當於年產量為8百萬平方米。

  最近國外又開發了一種可經受700℃高溫處理(如彎曲或回火)的真空鍍膜Low-E膜。為了確保這種真空鍍膜設備Low-E膜在高溫下具有良好的耐久性,要求每層真空鍍膜膜層都必須非常致密並且沒有空穴。

  MAD—8B多弧離子真空鍍膜設備

  一、用途及特點

  1、本機是鍍製耐磨塗層的專用設備。

  2、本機可鍍製膜層:金屬單質膜、氮化物等反應化合物膜,可作為耐磨、耐腐蝕及裝飾塗層。

  3、工件膜層均勻。

  4、本機采用進口PLC進行控製,可實現手動、自動功能。能對生產

  工藝流程實時顯示,以監測整個真空鍍膜過程。

  二、技術性能指標

  1、 結構形式: 立式圓形、間歇工作

  2、 體內腔尺寸: φ1000×1300

  3、 極限真空度: 2.6×10-3Pa

  4、 升壓率: 2Pa/h

  5、 靶數量: 8個

  6、 烘烤溫度: 400℃

  7、 裝載量: φ6MM HSS鑽頭約1000支

  8、 最大加工尺寸:φ500×1000

  9、 控製方式: 手動/自動

  10、 總功率: 70 KW

  11、 占地麵積: 40M2

  三、主要部份及特點

  本真空鍍膜設備主要部份包括:真空鍍膜室、真空係統、充氣係統、氣動係統、水冷係統、電控係統。

  1、真空鍍膜室

  真空鍍膜室主要由真空鍍膜室體、多弧靶、工件轉架及傳動係統、烘烤裝置、放氣閥等組成。

  1.1、真空鍍膜室體:

  立式圓筒結構,前開門,雙層水冷,材質均為不鏽鋼,有利於提高真空鍍膜膜層質量,內設有不鏽鋼屏蔽。鍍膜室體頂部設有備用孔,可供設備改型時備用,真空鍍膜室體外表麵噴砂處理,呈亞光金屬銀色。

  1.2、多弧靶:8套(Ti靶材)

  靶材尺寸:φ65×32

  1.3、工件轉架及傳動係統

  該係統由轉架(定盤)、動盤、自轉軸、主傳動軸、密封箱、減速器、直流電機等部分組成。定盤及自轉軸裝拆方便,自轉軸上夾具可根據各種不同工件形狀用戶自行設計。具備公轉、自轉功能,速度可調,運轉平穩,保證真空鍍膜膜層均勻。

  具備偏壓轟擊引入機構,確保真空鍍膜膜層的牢固度。

  1.4、烘烤裝置:

  真空鍍膜設備用鎧裝真空加熱器

  2、真空係統

  該係統由2X-70旋片泵、ZJ—300羅茨泵、K-500TD擴散泵及冷阱、電磁閥、氣動擋板閥以及它們的連接管道等組成。

  K-500TD擴散泵采用國內最先進產品,具有抽速大,返油低等特點,有利於提高膜層質量。為了鍍膜時調節主抽空管道的通導,高閥和鍍膜室之間設置了手動可定位節流擋板

  3、充氣係統:

  采用雙路質量流量控製器控製進氣、可自動進氣。該係統的特點是:質量流量控製器來控製充氣量。使靶極在恒壓強上進行工作,充入的氣量恒定,這樣保證膜層的均勻性和質量。

  4、氣動係統

  本係統由電磁換向閥、氣動三聯件、閥板、管路等組成,負責提供所有氣動閥門的開啟及靶觸發用。電磁換向閥采用日本SMC原裝進口產品,以確保靶工作的可靠性。

  5、水冷係統

  該係統由進水總管、回水總管、支架、球閥、水管及其附件、電接點壓力表等組成。用於對多弧靶、擴散泵、羅茨泵、旋片泵、傳動係統等進行冷卻。當水壓不足時具備報警功能並切斷相關電源,以避免損壞設備。

  6、電控係統

  電控係統由進口PLC機、靶電源、傳動係統控製、真空係統控製、氣動係統控製、真空鍍膜測量係統控製、及各類儀表、按鈕、電控櫃櫃體等組成。

  設備各部分之間及內部的邏輯關係及保護係統均由PLC完成。該係統抗幹擾能力強,各部份出現故障能自動指示報警。


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