我國光學鍍膜機技術發展曆史軌跡

 在真空中製備膜層，包括鍍製晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

      真空鍍膜技術初現於20世紀30年代，四五十年代開始出現工業應用，工業化大規模生產開始於20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。真空鍍膜是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表麵（通常是非金屬材料），屬於物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表麵真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料最為常見，其次，為紙張鍍膜。相對於金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來源充足、性能易於調控、加工方便等優勢，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結構材料，大量應用於汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業領域。但塑料材料大多存在表麵硬度不高、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷，如在塑料表麵蒸鍍一層極薄的金屬薄膜，即可賦予塑料程亮的金屬外觀，光學鍍膜機為金屬鍍膜還可大大增加材料表麵耐磨性能，大大拓寬了塑料的裝飾性和應用範圍。

      真空鍍膜的功能是多方麵的，這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表麵高度金屬光澤和鏡麵效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。