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真空鍍膜機薄膜均勻性概念

發布日期:2017-08-11 00:00 來源:http://www.teefurs.com 點擊:

1.厚度上的均勻性:也能夠理解為粗糙度,在光學薄膜的標準上看(也即是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜機的均勻性現已相當好,能夠輕鬆將粗糙度操控在可見光波長的1/10範圍內,也即是說關於薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何妨礙。

 

2.化學組分上的均勻性: 即是說在薄膜中,化合物的原子組分會由於標準過小而很簡單的發生不均勻特性,SiTiO3薄膜,假如鍍膜進程不科學,那麽實踐外表的組分並不是SiTiO3,而可能是其他的份額,鍍的膜並非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技能含量地點。

 

3.晶格有序度的均勻性: 這決議了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技能中的熱點問題。

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