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真空鍍膜機需要化學成分的均勻性

發布日期:2017-12-16 00:00 來源:http://www.teefurs.com 點擊:

真空鍍膜機在鍍膜的時候,需要鍍層表麵的化學成分保持均勻性,這主要體現在以下三個方麵:

1、厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看也就是1/10波長作為單位,約為100A,真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕鬆將粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內,也就是說對於薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表麵平整,具體控製因素下麵會根據不同鍍膜給出詳細解釋。

2、化學組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易的產生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜並非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。

3、晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術中的熱點問題。

鍍膜機

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