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真空鍍膜設備背壓檢漏法

發布日期:2019-08-17 00:00 來源:http://www.teefurs.com 點擊:

背壓檢漏法是一種充壓檢漏與真空檢漏相結合的方法,真空鍍膜設備中多用於封離後的電子器件、半導體器件等密封件的無損檢漏技術中。

鍍膜設備

其檢漏過程基本上可分為充壓、淨化和檢漏三個步驟。


(1)充壓過程是將被檢件在充有高壓示漏氣體的容器內存放一定時間,如被檢件有漏孔,示漏氣體就可以通過漏孔進入被檢件的內部,並且將隨浸泡時間的增加和充氣壓力的增高,被檢件內部示漏氣體的分壓力也必然會逐漸升高。


(2)淨化過程是采用幹燥氮氣流或幹燥空氣流在充壓容器外部或在其內部噴吹被檢件。


如不具備氣源時也可使被檢件靜置,以便去除吸附在被檢件外表麵上的示漏氣體。


在淨化過程中,因為有一部分氣體必然會從被檢件內部經漏孔流失,從而導致被檢件內部示漏氣體的分壓力逐漸下降,而且淨化時間越長,示漏氣體的分壓降就越大。


(3)檢漏過程則是將淨化後的被檢件放入真空室內,將檢漏儀與真空室相連接後進行檢漏。


抽真空後由於壓差作用,示漏氣體即可通過漏孔從被檢件內部流出,然後再經過真空室進入檢漏儀,按檢漏儀的輸出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。


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