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真空鍍膜機的工作原理

發布日期:2020-11-06 00:00 來源:http://www.teefurs.com 點擊:

真空鍍膜機的工作原理

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在鍍膜領域,鍍膜後薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此,當評價某薄膜樣品的性能時,需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對於真空鍍膜的情形,這往往需要進行多次試樣的製備。而這樣多次製備樣品存在兩個問題:首先,不同次生長的樣品,儀器的狀態不同,以至於影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度;其次,真空鍍膜實驗裝取樣品需要重新進行真空的獲得,非常耗時。增加了生產和檢測的成本。


因此,提供一種多功能磁控濺射鍍膜係統,本係統由真空鍍膜係統和手套箱係統集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,並在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、製備以及蒸鍍後樣品的檢測。蒸發鍍膜與手套箱組合,實現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉製作,使整個薄膜生長和器件製備過程高度集成在一個完整的可控環境氛圍的係統中,消除有機大麵積電路製備過程中大氣環境中不穩定因素影響,保障了高性能、大麵積有機光電器件和電路的製備。


多功能磁控濺射鍍膜係統主要用途:用於製備各種金屬膜、半導體膜、介質膜、磁控膜、光學膜、超導膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。


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