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離子濺射鍍膜設備

  • 所屬分類:離子濺射鍍膜機

  • 點擊次數:
  • 發布日期:2020/04/21
  • 在線詢價
詳細介紹
型號:IBSH-1030


特點:


1、基板水平放置,垂直監控;


2、靶材左右移動,位置和速度可編程控製;


3、基板:12吋×1 或 6吋×4;


4、靶材:兩靶,三靶或四靶可更換;


5、多光路監控。


6、無膜厚分布修正板

工藝參數:

一,真空係統

1、極限真空度:4.0×10-5Pa 

2、抽至10Pa所用時間:≦ 10 分鍾

3、漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec

二,控製精度

1、靶材旋轉:0.005°

2、工件旋轉: <1000RPM

3、編碼器: 12000lines;480000Counts/rev

4、膜厚修正板:0.005°

5、擋板:  position switch

三,光學監控係統OMS

1、波長範圍:380nm~1650nm

2、光源穩定性 :白光< 0.1%,激光< 0.02%

3、波長分辨率: 白光0.2nm,激光0.1nm

4、波長準確度: 白光0.2nm ,激光0.1nm



富二代成年抖音视频擁有領先的真空鍍膜技術,已申請多項專利。產品類型包括離子濺射鍍膜機電子槍蒸發鍍膜機高精度光學監控係統等,同時承攬鍍膜機設備的維修和改造以及鍍膜工藝谘詢服務等業務。

公司生產的離子濺射和電子槍鍍膜機,是針對特定市場和客戶群體開發的新產品,與目前市場上普遍采用的鍍膜機相比具備以下突出優勢:單體同步精密監控,實時膜厚分布控製。因此適合做各類高難度鍍膜產品。單片薄膜產品的麵積越大,優勢越明顯。而電子槍蒸發鍍膜機還增加了雙麵鍍膜功能,適合半導體激光器的端麵鍍膜。

我公司將利用自身技術優勢,根據客戶需求,生產各種類型的高端精密鍍膜設備,打破目前在高端鍍膜機市場全部由國外企業壟斷的局麵,歡迎各界人士來電谘詢!


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